الأجهزة المختبرية

المجهر الالكتروني الماسح (Scanning Electron Microscope SEM)

     يوفر مركزنا هذا الفحص بجهاز من شركة (TESCAN, Vega2) جيكي المنشأ.

جهاز حيود الأشعة السينية (X-ray Diffraction, XRD)

     يتوفر في مركزنا هذا الجهاز نوع  (XRD 6000/Shimadzu) ياباني المنشأ.

مجهر القوى الذرية (Atomic Force Microscope, AFM)

يتوفر في مركزنا الجهاز من نوع  (Model: SPM-AA3000) امريكي المنشأ.

المجهر البصري (Optical Microscope)

     يتوفر في مركزنا المجهرالعاكس (Models: Olympus BX51M- Japan, BEL -MTM/1A Germany)

جهاز تحليل الحجم الحبيبي (Particle Size Analyzer)

يتوفر في مركزنا (Models: Brookhaven Nano Brook 90 plus USA)

مقياس جهد زيتا (Zeta Potential)

يتوفر في مركزنا (Models: Brookhaven Nano Brook Zeta Plus USA)

جهاز فحص الانضغاطية (Compressive Strength)

     يتوفر في مركزنا الجهاز(Model: JYS-2000/ China)

جهاز الفحص بالموجات الفوق الصوتية (Ultrasonic waves)

جهاز المجهاد الساكن (Potentiostat)

     يتوفر في مركزنا الجهاز ادناه (Model: DY 2300 / USA)

جهاز المجهاد الساكن المزود بقياس مناعة السطح (Electrochemical impedance spectroscopy , EIS)

      يتوفر جهاز قياس التاكل الحديث من شركة (CorrTest) صيني المنشأ بقياسات مختلفة تشمل قحص جهد الدائرة المفتوحة وتسجيل منحنيات الاستقطاب وقياس التنقر وفحص مناعة السطح.

جهاز فحص مقاومة الصدمة

 يتوفر في مركزنا جهاز الصدمة  (XJJ-50 CHARPY Impact testing machine (Model: xjj-50/ China).

جهاز الصقل والتنعيم (Grinding and Polishing)

يتوفر لدى مركزنا الجهاز (Model: MPD 200 / China).

جهاز فحص الشد (Tensile Test)

يتوفر في مركزنا الجهاز(Layree Company –China).

مطيافية الامتصاص الذري (Atomic Absorption Spectroscopy, AAS)

يتوفر في مركزنا الجهاز ((Model: AA 6300 / Shimadzu /Japan.

مطيافية الاشعة تحت الحمراء (Infrared Spectroscopy)

يتوفر في مركزنا الجهاز مزوداً بنمظومة ATR من نوع (Bruker, ALPHA II) الماني المنشأ.

مطياف الاشعة فوق البنفسجية – المرئية (UV – Visible Spectroscopy)

يتوفر في مركزنا الجهاز(Model: Metrotech SP 8001).

الطلاء البرمي (Spin Coater)

     يتوفر في مركزنا الجهاز من منشأ هندي.

منظومة التبخير الحراري (Thermal Evaporation)

     تتوفر المنظومة بصناعة محلية.

جهاز ترسيب البخار كيميائياً (Chemical Vapor Deposition)

     يستخدم الجهاز المزود بفرن تصل درجة حرارته الى (700-1000) درجة مئوية لترسيب غشاء رقيق على قاعدة معينة تحت ظروف مفرغة او غازات خاملة.

منظومة الترسيب والاقتلاع بالليزر النبضي (Pulsed Laser Deposition)

تتوفر المنظومة بصناعة محلية.

افران درجات الحرارة العالية (High Temperatures Furnace)

المجموعة الأولى: أفران أنبوبية سيراميكية تصل درجة حرارتها الى 1700 درجة مئوية يتخللها أنبوب كوارتز لوضع النماذج وضخ الغازات المطلوبة.

المجموعة الثانية: أفران المعاملات الحرارية بدرجة حرارة تصل الى حدود 1200 درجة مئوية.

جهاز كروماتوغرافيا الغاز (Gas Chromatography)

يتوفر لدى مركزنا  (GC-2010 plus, Shimadzue) ياباني المنشأ.

الحاضنة الهزازة (Shaking Incubator)

تتوفر في مركزنا الحاضنة الكورية المنشأ نوع (Shaking Incubator/Lab Tech/ LSA-3016R/Korea).

الكابينة البايولوجية (Biosafety Cabinet)

     متوفرة في مركزنا Model: Class II AZ (Turkish made).